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  • 產(chǎn)生單峰的方法及裝置制造方法

    文檔序號:6163969閱讀:343來源:國知局
    產(chǎn)生單峰的方法及裝置制造方法
    【專利摘要】本發(fā)明公開了一種產(chǎn)生單峰的方法及裝置,產(chǎn)生單峰的方法包括:確定融合峰簇內(nèi)第一個(gè)融合峰的起點(diǎn)為所述融合峰簇對應(yīng)單峰的起點(diǎn);確定所述融合峰簇內(nèi)最后一個(gè)融合峰的終點(diǎn)為所述單峰的終點(diǎn);確定所述起點(diǎn)與終點(diǎn)之間的最高點(diǎn)為所述單峰的頂點(diǎn);根據(jù)所述單峰的起點(diǎn)、終點(diǎn)和頂點(diǎn),產(chǎn)生所述單峰。本發(fā)明可以滿足用戶在實(shí)驗(yàn)過程中,對于一些特殊結(jié)構(gòu)的化學(xué)物質(zhì),譬如同分異構(gòu)體,在譜圖中表現(xiàn)為融合峰簇,需要將其作為同一種物質(zhì)進(jìn)行定量計(jì)算的需求;也可以滿足用戶在實(shí)驗(yàn)中粗略計(jì)算某些物質(zhì)的總含量的需求,該方法及裝置不僅實(shí)現(xiàn)簡單,而且能夠自適應(yīng)的將融合峰簇強(qiáng)制為單峰,而對單峰不做任何處理。
    【專利說明】產(chǎn)生單峰的方法及裝置
    【技術(shù)領(lǐng)域】
    [0001]本發(fā)明涉及色譜儀【技術(shù)領(lǐng)域】,尤其涉及產(chǎn)生單峰的方法及裝置。
    【背景技術(shù)】
    [0002]目前業(yè)界的色譜儀都提供有色譜工作站,色譜工作站一方面完成對下位機(jī)的控制,另一方面對采集到的色譜數(shù)據(jù)進(jìn)行分析處理。在實(shí)驗(yàn)員進(jìn)行化學(xué)分析的過程中,由于待測樣品特有的化學(xué)性質(zhì)、以及色譜柱性能下降或者所選實(shí)驗(yàn)方法不合適等原因,造成色譜峰分離不徹底出現(xiàn)融合峰的現(xiàn)象。按照藥典規(guī)定,確定色譜峰是融合峰還是單峰的標(biāo)準(zhǔn)是:兩個(gè)峰之間的分離度,兩個(gè)峰的分離度在1.5以上的才認(rèn)為這兩個(gè)峰完全分離,融合峰是指分離度小于1.5的色譜峰,分離度大于等于1.5的色譜峰為單峰。一個(gè)融合峰簇內(nèi)包括多個(gè)峰,每一個(gè)峰均為融合峰,即在一個(gè)融合峰簇內(nèi),兩相鄰融合峰的分離度小于1.5。目前對融合峰簇主流的處理方法是:垂直分離和谷谷分離。其中圖1為Agilent軟件對融合峰簇的垂直分離效果圖,圖2為Agilent軟件對融合峰簇的谷谷分離效果圖,圖3為Clarity軟件對融合峰簇的垂直分離效果圖,圖4為Clarity軟件對融合峰簇的谷谷分離效果圖。此夕卜,對于基線貫穿,Agilent軟件不進(jìn)行調(diào)整,而Clarity軟件會進(jìn)行自動調(diào)整。上述的基線貫穿是指:基線與色譜數(shù)據(jù)存在除峰的起止點(diǎn)以外的交點(diǎn)。
    [0003]垂直分離和谷谷分離的共同特點(diǎn)是:將融合峰簇進(jìn)行分離,這樣在做定量分析的時(shí)候,融合峰簇就會被作為不同的物質(zhì)來分析處理。但是在實(shí)驗(yàn)中,一些物質(zhì)存在同分異構(gòu)體,在實(shí)驗(yàn)員設(shè)定的實(shí)驗(yàn)方法條件下,雖然是同一物質(zhì),但是仍然無法完全分離,形成融合峰簇。

    【發(fā)明內(nèi)容】

    [0004]本發(fā)明實(shí)施例提供一種產(chǎn)生單峰的方法,用以解決現(xiàn)有技術(shù)中一些物質(zhì)在實(shí)驗(yàn)時(shí)無法完全分離而形成融合峰簇的問題,該方法包括:
    [0005]確定融合峰簇內(nèi)第一個(gè)融合峰的起點(diǎn)為所述融合峰簇對應(yīng)單峰的起點(diǎn);
    [0006]確定所述融合峰簇內(nèi)最后一個(gè)融合峰的終點(diǎn)為所述單峰的終點(diǎn);
    [0007]確定所述起點(diǎn)與終點(diǎn)之間的最高點(diǎn)為所述單峰的頂點(diǎn);
    [0008]根據(jù)所述單峰的起點(diǎn)、終點(diǎn)和頂點(diǎn),產(chǎn)生所述單峰。
    [0009]本發(fā)明實(shí)施例還提供一種產(chǎn)生單峰的裝置,用以解決現(xiàn)有技術(shù)中一些物質(zhì)在實(shí)驗(yàn)時(shí)無法完全分離而形成融合峰簇的問題,該裝置包括:
    [0010]起點(diǎn)確定模塊,用于確定融合峰簇內(nèi)第一個(gè)融合峰的起點(diǎn)為所述融合峰簇對應(yīng)單峰的起點(diǎn);
    [0011]終點(diǎn)確定模塊,用于確定所述融合峰簇內(nèi)最后一個(gè)融合峰的終點(diǎn)為所述單峰的終
    占.[0012]頂點(diǎn)確定模塊,用于確定所述起點(diǎn)與終點(diǎn)之間的最高點(diǎn)為所述單峰的頂點(diǎn);
    [0013]單峰產(chǎn)生模塊,用于根據(jù)所述單峰的起點(diǎn)、終點(diǎn)和頂點(diǎn),產(chǎn)生所述單峰。[0014]本發(fā)明實(shí)施例可以滿足用戶在實(shí)驗(yàn)過程中,對于一些特殊結(jié)構(gòu)的化學(xué)物質(zhì),譬如同分異構(gòu)體,在譜圖中表現(xiàn)為融合峰簇,無法完全分離在實(shí)驗(yàn)中卻需要將其作為同一種物質(zhì)進(jìn)行定量計(jì)算的需求;而且也可以滿足實(shí)驗(yàn)員需要粗略計(jì)算物質(zhì)總含量的需求,本發(fā)明實(shí)施例不僅實(shí)現(xiàn)簡單,而且能夠自適應(yīng)的將融合峰簇強(qiáng)制為單峰,而對單峰不做任何處理。
    【專利附圖】

    【附圖說明】
    [0015]為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,下面將對實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例,對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講,在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。在附圖中:
    [0016]圖1為現(xiàn)有技術(shù)中Agilent軟件對融合峰簇的垂直分離效果圖;
    [0017]圖2為現(xiàn)有技術(shù)中Agilent軟件對融合峰簇的谷谷分離效果圖;
    [0018]圖3為現(xiàn)有技術(shù)中Clarity軟件對融合峰簇的垂直分離效果圖;
    [0019]圖4為現(xiàn)有技術(shù)中Clarity軟件對融合峰簇的谷谷分離效果圖;
    [0020]圖5為本發(fā)明實(shí)施例中產(chǎn)生單峰的方法的處理流程圖;
    [0021]圖6為本發(fā)明實(shí)施例中產(chǎn)生單峰的方法的一個(gè)具體實(shí)例的處理流程圖;
    [0022]圖7為本發(fā)明實(shí)施例中在色譜工作站譜圖界面設(shè)置強(qiáng)制單峰按鈕的示意圖;
    [0023]圖8為本發(fā)明實(shí)施例中強(qiáng)制單峰的實(shí)現(xiàn)過程示意圖;
    [0024]圖9為本發(fā)明實(shí)施例中強(qiáng)制單峰的效果圖;
    [0025]圖10為本發(fā)明實(shí)施例產(chǎn)生單峰的裝置的結(jié)構(gòu)示意圖;
    [0026]圖11、圖12、圖13、圖14為本發(fā)明實(shí)施例產(chǎn)生單峰的裝置的具體實(shí)例的結(jié)構(gòu)示意圖。
    【具體實(shí)施方式】
    [0027]為使本發(fā)明實(shí)施例的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白,下面結(jié)合附圖對本發(fā)明實(shí)施例做進(jìn)一步詳細(xì)說明。在此,本發(fā)明的示意性實(shí)施例及其說明用于解釋本發(fā)明,但并不作為對本發(fā)明的限定。
    [0028]發(fā)明人考慮到,現(xiàn)有技術(shù)中,在實(shí)驗(yàn)中一些物質(zhì)存在同分異構(gòu)體,在實(shí)驗(yàn)員設(shè)定的實(shí)驗(yàn)方法條件下,雖然是同一物質(zhì),但是仍然無法完全分離,形成融合峰簇,為解決這一問題,本發(fā)明實(shí)施例考慮在做定量分析時(shí),將此融合峰簇強(qiáng)制為單峰,視為一種物質(zhì)來做分析,由于現(xiàn)有技術(shù)手段無法滿足此需求,因此在本發(fā)明實(shí)施例中提供一種產(chǎn)生單峰的方法。
    [0029]圖5為本發(fā)明實(shí)施例中產(chǎn)生單峰的方法的處理流程圖。如圖5所示,本發(fā)明實(shí)施例中產(chǎn)生單峰的方法可以包括:
    [0030]步驟501、確定融合峰簇內(nèi)第一個(gè)融合峰的起點(diǎn)為所述融合峰簇對應(yīng)單峰的起
    占.[0031]步驟502、確定所述融合峰簇內(nèi)最后一個(gè)融合峰的終點(diǎn)為所述單峰的終點(diǎn);
    [0032]步驟503、確定所述起點(diǎn)與終點(diǎn)之間的最高點(diǎn)為所述單峰的頂點(diǎn);
    [0033]步驟504、根據(jù)所述單峰的起點(diǎn)、終點(diǎn)和頂點(diǎn),產(chǎn)生所述單峰。
    [0034]具體實(shí)施時(shí),在產(chǎn)生所述單峰后,還可以確定所述單峰的基線是否貫穿;并在所述單峰的基線貫穿時(shí),進(jìn)行基線調(diào)整。這里的基線貫穿是指:基線與色譜數(shù)據(jù)存在除峰的起止點(diǎn)以外的交點(diǎn)。
    [0035]具體實(shí)施時(shí),可以指定強(qiáng)制單峰的區(qū)域,可以將指定區(qū)域內(nèi)的融合峰簇強(qiáng)制為單峰,而對指定區(qū)域的單峰不做任何改變。例如可以在用戶指定區(qū)域內(nèi)確定出融合峰簇,對確定出的融合峰簇按圖5所述流程執(zhí)行強(qiáng)制單峰的處理。具體的,由用戶指定區(qū)域,可以檢測用戶指定區(qū)域內(nèi)的所有峰,這里判斷的條件是峰的起點(diǎn)和終點(diǎn)都在用戶指定區(qū)域內(nèi),可以在用戶指定區(qū)域內(nèi)的所有峰中確定出融合峰簇,這樣就能夠根據(jù)用戶指定的色譜區(qū)域自適應(yīng)的將該區(qū)域的融合峰簇設(shè)置為單峰,而對單峰不做修改。
    [0036]具體實(shí)施時(shí),當(dāng)存在多個(gè)融合峰簇時(shí),可以分別對每個(gè)融合峰簇產(chǎn)生對應(yīng)單峰。當(dāng)然實(shí)施時(shí),也可以不對每個(gè)融合峰簇產(chǎn)生對應(yīng)單峰,而且根據(jù)需要在所有融合峰簇中進(jìn)行挑選,挑選出一部分融合峰簇產(chǎn)生對應(yīng)單峰,例如可以根據(jù)用戶選擇確定出一些融合峰簇進(jìn)行上述強(qiáng)制單峰的處理。例如對于用戶指定區(qū)域內(nèi)的多個(gè)融合峰簇,分別對每個(gè)融合峰簇產(chǎn)生對應(yīng)單峰,而對用戶指定區(qū)域外的融合峰簇不作修改。
    [0037]具體實(shí)施時(shí),在將融合峰簇強(qiáng)制產(chǎn)生單峰之后,可以確定單峰的面積,并根據(jù)單峰的面積,進(jìn)行融合峰簇對應(yīng)待測樣品色譜數(shù)據(jù)的計(jì)算?;蛘?,在將融合峰簇強(qiáng)制產(chǎn)生單峰之后,可以確定單峰的峰高,并根據(jù)單峰的峰高,進(jìn)行融合峰簇對應(yīng)待測樣品色譜數(shù)據(jù)的計(jì)算。這樣,實(shí)驗(yàn)員可以根據(jù)強(qiáng)制后的單峰的面積或者峰高來對待測樣品色譜數(shù)據(jù)進(jìn)行定量計(jì)算。
    [0038]圖6為本發(fā)明實(shí)施例中產(chǎn)生單峰的方法的一個(gè)具體實(shí)例的處理流程圖。如圖6所示,本例中產(chǎn)生單峰的方法可以包括:
    [0039]步驟601、檢測用戶指定區(qū)域內(nèi)的所有峰,這里判斷的條件是峰的起點(diǎn)和終點(diǎn)都在用戶指定區(qū)域內(nèi);
    [0040]步驟602、將分離度小于1.5的峰確定為融合峰,將分離度大于1.5的峰確定為單峰,對用戶指定區(qū)域內(nèi)的所有峰進(jìn)行逐一檢測,確定是否為融合峰,如果不是融合峰,則進(jìn)行下一個(gè)峰是否為融合峰的確定,如果是融合峰則執(zhí)行步驟603 ;
    [0041 ] 步驟603、檢測融合峰簇內(nèi)的所有融合峰;
    [0042]步驟604、將融合峰簇內(nèi)第一個(gè)融合峰的起點(diǎn)作為該融合峰簇強(qiáng)制得到的對應(yīng)單峰的起點(diǎn);
    [0043]步驟605、將融合峰簇內(nèi)最后一個(gè)融合峰的終點(diǎn)作為該融合峰簇強(qiáng)制得到的對應(yīng)單峰的終點(diǎn);
    [0044]步驟606、將上述確定的起點(diǎn)與終點(diǎn)之間的最高點(diǎn)作為該融合峰簇強(qiáng)制得到的對應(yīng)單峰的頂點(diǎn);
    [0045]步驟607、根據(jù)得到的單峰的起點(diǎn)、終點(diǎn)和頂點(diǎn),產(chǎn)生單峰;
    [0046]步驟608、判斷該單峰的基線是否貫穿,如果貫穿,則進(jìn)行基線調(diào)整,這里的基線貫穿是指:基線與色譜數(shù)據(jù)存在除峰的起止點(diǎn)以外的交點(diǎn)。
    [0047]實(shí)驗(yàn)員可以根據(jù)強(qiáng)制后的單峰的面積或者峰高來對待測樣品包譜數(shù)據(jù)進(jìn)行定量計(jì)算。
    [0048]具體實(shí)施時(shí),可以在色譜工作站譜圖界面設(shè)置一個(gè)“強(qiáng)制單峰”按鈕,以便用戶操作實(shí)施本發(fā)明實(shí)施例的產(chǎn)生單峰的方法。圖7為本發(fā)明實(shí)施例中在色譜工作站譜圖界面設(shè)置強(qiáng)制單峰按鈕的示意圖。如圖7所示,用戶可以通過操作色譜工作站譜圖界面的“強(qiáng)制單峰”按鈕,實(shí)施本發(fā)明實(shí)施例的產(chǎn)生單峰的方法。圖8為本發(fā)明實(shí)施例中強(qiáng)制單峰的實(shí)現(xiàn)過程示意圖。圖9為本發(fā)明實(shí)施例中強(qiáng)制單峰的效果圖。如圖8、圖9所示,用戶指定區(qū)域?yàn)閳D8中時(shí)間從2分鐘至8分鐘之間的區(qū)域,從圖9可以看到,強(qiáng)制單峰后圖8中7分鐘附近的融合峰簇強(qiáng)制為單峰。
    [0049]由上述實(shí)施例可以得知,本發(fā)明實(shí)施例可以滿足用戶在實(shí)驗(yàn)過程中,對于一些特殊結(jié)構(gòu)的化學(xué)物質(zhì),譬如同分異構(gòu)體,在譜圖中表現(xiàn)為融合峰簇,無法完全分離卻需要將其作為同一種物質(zhì)進(jìn)行定量計(jì)算的需求,而且也可以滿足實(shí)驗(yàn)員需要粗略計(jì)算物質(zhì)總含量的需求,解決目前業(yè)界色譜工作站不能將融合峰簇強(qiáng)制為單峰的問題,而且操作簡單,能夠自適應(yīng)的將融合峰簇強(qiáng)制為單峰,而對單峰不做任何處理;在用戶指定區(qū)域?qū)嵤r(shí),能夠根據(jù)用戶指定的色譜區(qū)域自適應(yīng)的將該區(qū)域的融合峰簇設(shè)置為單峰,而對單峰不做修改。
    [0050]本發(fā)明實(shí)施例中還提供了一種產(chǎn)生單峰的裝置,如下面的實(shí)施例所述。由于產(chǎn)生單峰的裝置解決問題的原理與產(chǎn)生單峰的方法相似,因此產(chǎn)生單峰的裝置的實(shí)施可以參見產(chǎn)生單峰的方法的實(shí)施,重復(fù)之處不再贅述。
    [0051]圖10為本發(fā)明實(shí)施例產(chǎn)生單峰的裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。如圖10所示,本發(fā)明實(shí)施例產(chǎn)生單峰的裝置可以包括:
    [0052]起點(diǎn)確定模塊1001,用于確定融合峰簇內(nèi)第一個(gè)融合峰的起點(diǎn)為所述融合峰簇對應(yīng)單峰的起點(diǎn);
    [0053]終點(diǎn)確定模塊1002,用于確定所述融合峰簇內(nèi)最后一個(gè)融合峰的終點(diǎn)為所述單峰的終點(diǎn);
    [0054]頂點(diǎn)確定模塊1003,用于確定所述起點(diǎn)與終點(diǎn)之間的最高點(diǎn)為所述單峰的頂點(diǎn);
    [0055]單峰產(chǎn)生模塊1004,用于根據(jù)所述單峰的起點(diǎn)、終點(diǎn)和頂點(diǎn),產(chǎn)生所述單峰。
    [0056]如圖11所示,一個(gè)實(shí)施例中,圖10所示的產(chǎn)生單峰的裝置還可以包括:
    [0057]峰簇確定模塊1101,用于在用戶指定區(qū)域內(nèi)確定所述融合峰簇。
    [0058]一個(gè)實(shí)施例中,單峰產(chǎn)生模塊1004可以進(jìn)一步用于在所述融合峰簇為多個(gè)時(shí),分別對每個(gè)融合峰簇產(chǎn)生對應(yīng)單峰。
    [0059]如圖12所示,一個(gè)實(shí)施例中,圖10所示的產(chǎn)生單峰的裝置還可以包括:
    [0060]基線確定模塊1201,用于確定所述單峰的基線是否貫穿;
    [0061]基線調(diào)整模塊1202,用于在所述單峰的基線貫穿時(shí),進(jìn)行基線調(diào)整。
    [0062]如圖13所示,一個(gè)實(shí)施例中,圖10所示的產(chǎn)生單峰的裝置還可以包括:
    [0063]面積確定模塊1301,用于確定所述單峰的面積;
    [0064]色譜數(shù)據(jù)計(jì)算模塊1302,用于根據(jù)所述單峰的面積,進(jìn)行所述融合峰簇對應(yīng)待測樣品色譜數(shù)據(jù)的計(jì)算。面積確定模塊1301和色譜數(shù)據(jù)計(jì)算模塊1302也可以實(shí)施于圖11或圖12所示的產(chǎn)生單峰的裝置。
    [0065]如圖14所示,一個(gè)實(shí)施例中,圖10所示的產(chǎn)生單峰的裝置還可以包括:
    [0066]峰高確定模塊1401,用于確定所述單峰的峰高;
    [0067]色譜數(shù)據(jù)計(jì)算模塊1402,用于根據(jù)所述單峰的峰高,進(jìn)行所述融合峰簇對應(yīng)待測樣品色譜數(shù)據(jù)的計(jì)算。峰高確定模塊1401和色譜數(shù)據(jù)計(jì)算模塊1402也可以實(shí)施于圖11或圖12所示的產(chǎn)生單峰的裝置。[0068]綜上所述,本發(fā)明實(shí)施例可以滿足用戶在實(shí)驗(yàn)過程中,對于一些特殊結(jié)構(gòu)的化學(xué)物質(zhì),譬如同分異構(gòu)體,在譜圖中表現(xiàn)為融合峰簇,無法完全分離在實(shí)驗(yàn)中卻需要將其作為同一種物質(zhì)進(jìn)行定量計(jì)算的需求,而且也可以滿足實(shí)驗(yàn)員需要粗略計(jì)算物質(zhì)總含量的需求,解決目前色譜工作站不能將融合峰簇強(qiáng)制為單峰的問題;并且不僅實(shí)現(xiàn)簡單,而且能夠自適應(yīng)的將用戶指定區(qū)域內(nèi)的融合峰簇強(qiáng)制為單峰,而對單峰不做任何處理;在用戶指定區(qū)域?qū)嵤r(shí),能夠根據(jù)用戶指定的色譜區(qū)域自適應(yīng)的將該區(qū)域的融合峰簇設(shè)置為單峰,而對單峰不做修改。
    [0069]本領(lǐng)域內(nèi)的技術(shù)人員應(yīng)明白,本發(fā)明的實(shí)施例可提供為方法、系統(tǒng)、或計(jì)算機(jī)程序產(chǎn)品。因此,本發(fā)明可采用完全硬件實(shí)施例、完全軟件實(shí)施例、或結(jié)合軟件和硬件方面的實(shí)施例的形式。而且,本發(fā)明可采用在一個(gè)或多個(gè)其中包含有計(jì)算機(jī)可用程序代碼的計(jì)算機(jī)可用存儲介質(zhì)(包括但不限于磁盤存儲器、CD-ROM、光學(xué)存儲器等)上實(shí)施的計(jì)算機(jī)程序產(chǎn)品的形式。
    [0070]本發(fā)明是參照根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的方法、設(shè)備(系統(tǒng))、和計(jì)算機(jī)程序產(chǎn)品的流程圖和/或方框圖來描述的。應(yīng)理解可由計(jì)算機(jī)程序指令實(shí)現(xiàn)流程圖和/或方框圖中的每一流程和/或方框、以及流程圖和/或方框圖中的流程和/或方框的結(jié)合??商峁┻@些計(jì)算機(jī)程序指令到通用計(jì)算機(jī)、專用計(jì)算機(jī)、嵌入式處理機(jī)或其他可編程數(shù)據(jù)處理設(shè)備的處理器以產(chǎn)生一個(gè)機(jī)器,使得通過計(jì)算機(jī)或其他可編程數(shù)據(jù)處理設(shè)備的處理器執(zhí)行的指令產(chǎn)生用于實(shí)現(xiàn)在流程圖一個(gè)流程或多個(gè)流程和/或方框圖一個(gè)方框或多個(gè)方框中指定的功能的裝置。
    [0071]這些計(jì)算機(jī)程序指令也可存儲在能引導(dǎo)計(jì)算機(jī)或其他可編程數(shù)據(jù)處理設(shè)備以特定方式工作的計(jì)算機(jī)可讀存儲器中,使得存儲在該計(jì)算機(jī)可讀存儲器中的指令產(chǎn)生包括指令裝置的制造品,該指令裝置實(shí)現(xiàn)在流程圖一個(gè)流程或多個(gè)流程和/或方框圖一個(gè)方框或多個(gè)方框中指定的功能。
    [0072]這些計(jì)算機(jī)程序指令也可裝載到計(jì)算機(jī)或其他可編程數(shù)據(jù)處理設(shè)備上,使得在計(jì)算機(jī)或其他可編程設(shè)備上執(zhí)行一系列操作步驟以產(chǎn)生計(jì)算機(jī)實(shí)現(xiàn)的處理,從而在計(jì)算機(jī)或其他可編程設(shè)備上執(zhí)行的指令提供用于實(shí)現(xiàn)在流程圖一個(gè)流程或多個(gè)流程和/或方框圖一個(gè)方框或多個(gè)方框中指定的功能的步驟。
    [0073]以上所述的具體實(shí)施例,對本發(fā)明的目的、技術(shù)方案和有益效果進(jìn)行了進(jìn)一步詳細(xì)說明,所應(yīng)理解的是,以上所述僅為本發(fā)明的具體實(shí)施例而已,并不用于限定本發(fā)明的保護(hù)范圍,凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi),所做的任何修改、等同替換、改進(jìn)等,均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
    【權(quán)利要求】
    1.一種產(chǎn)生單峰的方法,其特征在于,包括: 確定融合峰簇內(nèi)第一個(gè)融合峰的起點(diǎn)為所述融合峰簇對應(yīng)單峰的起點(diǎn); 確定所述融合峰簇內(nèi)最后一個(gè)融合峰的終點(diǎn)為所述單峰的終點(diǎn); 確定所述起點(diǎn)與終點(diǎn)之間的最高點(diǎn)為所述單峰的頂點(diǎn); 根據(jù)所述單峰的起點(diǎn)、終點(diǎn)和頂點(diǎn),產(chǎn)生所述單峰。
    2.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,還包括: 在用戶指定區(qū)域內(nèi)確定所述融合峰簇。
    3.如權(quán)利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述融合峰簇為多個(gè)時(shí),分別對每個(gè)融合峰簇產(chǎn)生對應(yīng)單峰。
    4.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,還包括: 確定所述單峰的基線是否貫穿; 在所述單峰的基線貫穿時(shí),進(jìn)行基線調(diào)整。
    5.如權(quán)利要求1、2或4所述的方法,其特征在于,還包括: 確定所述單峰的面積; 根據(jù)所述單峰的面積,進(jìn)行所述融合峰簇對應(yīng)待測樣品色譜數(shù)據(jù)的計(jì)算。
    6.如權(quán)利要求1、2或4所述的方法,其特征在于,還包括: 確定所述單峰的峰高; 根據(jù)所述單峰的峰高,進(jìn)行所述融合峰簇對應(yīng)待測樣品色譜數(shù)據(jù)的計(jì)算。
    7.—種產(chǎn)生單峰的裝置,其特征在于,包括: 起點(diǎn)確定模塊,用于確定融合峰簇內(nèi)第一個(gè)融合峰的起點(diǎn)為所述融合峰簇對應(yīng)單峰的起點(diǎn); 終點(diǎn)確定模塊,用于確定所述融合峰簇內(nèi)最后一個(gè)融合峰的終點(diǎn)為所述單峰的終點(diǎn); 頂點(diǎn)確定模塊,用于確定所述起點(diǎn)與終點(diǎn)之間的最高點(diǎn)為所述單峰的頂點(diǎn); 單峰產(chǎn)生模塊,用于根據(jù)所述單峰的起點(diǎn)、終點(diǎn)和頂點(diǎn),產(chǎn)生所述單峰。
    8.如權(quán)利要求7所述的裝置,其特征在于,還包括: 峰簇確定模塊,用于在用戶指定區(qū)域內(nèi)確定所述融合峰簇。
    9.如權(quán)利要求7或8所述的裝置,其特征在于,所述單峰產(chǎn)生模塊進(jìn)一步用于在所述融合峰簇為多個(gè)時(shí),分別對每個(gè)融合峰簇產(chǎn)生對應(yīng)單峰。
    10.如權(quán)利要求7所述的裝置,其特征在于,還包括: 基線確定模塊,用于確定所述單峰的基線是否貫穿; 基線調(diào)整模塊,用于在所述單峰的基線貫穿時(shí),進(jìn)行基線調(diào)整。
    11.如權(quán)利要求7、8或10所述的裝置,其特征在于,還包括: 面積確定模塊,用于確定所述單峰的面積; 色譜數(shù)據(jù)計(jì)算模塊,用于根據(jù)所述單峰的面積,進(jìn)行所述融合峰簇對應(yīng)待測樣品色譜數(shù)據(jù)的計(jì)算。
    12.如權(quán)利要求7、8或10所述的裝置,其特征在于,還包括: 峰高確定模塊,用于確定所述單峰的峰高; 色譜數(shù)據(jù)計(jì)算模塊,用于根據(jù)所述單峰的峰高,進(jìn)行所述融合峰簇對應(yīng)待測樣品色譜數(shù)據(jù)的計(jì)算。
    【文檔編號】G01N30/02GK103869005SQ201210540132
    【公開日】2014年6月18日 申請日期:2012年12月13日 優(yōu)先權(quán)日:2012年12月13日
    【發(fā)明者】王燦, 王悅, 王鐵軍, 李維森 申請人:北京普源精電科技有限公司
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