本發(fā)明涉及陶瓷器具生產(chǎn)設備，特別涉及一種陶瓷器具洗邊機。

背景技術：

1、陶瓷在壓制燒成后，由于其成型坯料的周邊不夠規(guī)整，通常需要采用磨邊設備對碗碟邊緣進行打磨處理，使其光滑圓潤，避免鋒利毛刺，提升陶瓷器具的使用安全性、美觀度和觸感舒適性。

2、如發(fā)明專利cn105364662b所公開的陶瓷磨邊機，現(xiàn)有的陶瓷洗邊設備一般采用轉盤形式：通過轉盤帶動圓周排布的多個物料在環(huán)形路徑上移動，從而實現(xiàn)洗邊物料的持續(xù)供應。物料通過轉盤上帶有真空吸附功能的轉軸進行固定并驅動物料旋轉，以配合設置在轉盤旁側的洗邊器具實現(xiàn)洗邊或磨邊。

3、在洗邊加工過程中，物料與轉軸之間的同軸度對洗邊效果的影響較大。為保證陶瓷物料與轉軸的同軸度，生產(chǎn)廠家要么通過高精度的上料裝置進行上料，確保上料時的放置精度；要么在上料工位和洗邊工位之間增加位置校正裝置，對陶瓷物料與轉軸的同軸度進行修整。

4、但是，高精度上料對陶瓷物料本身的形狀要求較高，而洗邊處理之前陶瓷物料本身的尺寸精度較難保證，尤其是對于異形陶瓷器具而言，高精度上料的難度高；而且這種上料裝置的通用性低，在物料的規(guī)格或形狀發(fā)生變更后，上料裝置往往需要重新設計或更換大量零部件。

5、而現(xiàn)有技術中的陶瓷洗邊設備，帶動物料自轉的轉軸通過沿整圈路徑的傳動機構實現(xiàn)同步連接，通過驅動元件驅動而實現(xiàn)同步啟停，例如，通過整圈鏈條帶動多個鏈輪使多條轉軸同步轉動。同樣地，多條轉軸的負壓通斷也是通過氣滑環(huán)統(tǒng)一控制。這導致各個轉軸的吸附和旋轉動作保持高度一致性，靈活性低。在位置校正過程中，轉軸需要斷開負壓并保持較低的轉速，故無法同時進行洗邊加工，對加工周期時間影響較大。

技術實現(xiàn)思路

1、本發(fā)明目的在于提供一種陶瓷器具洗邊機，以解決現(xiàn)有技術中所存在的一個或多個技術問題，至少提供一種有益的選擇或創(chuàng)造條件。

2、為解決上述技術問題所采用的技術方案：

3、一種陶瓷器具洗邊機，包括：轉盤裝置、校正裝置和洗邊裝置；

4、所述轉盤裝置包括公轉轉盤、公轉驅動構件和多個轉軸機構，所述公轉轉盤具有上下延伸的中軸線，多個所述轉軸機構繞所述中軸線均勻排布于所述公轉轉盤，所述轉軸機構包括旋轉軸和自轉傳動輪，所述旋轉軸與所述公轉轉盤轉動連接，所述自轉傳動輪與所述旋轉軸同軸固定連接，所述公轉驅動構件用于驅動所述公轉轉盤旋轉、以使多個所述轉軸機構沿第一環(huán)形路徑同步移動；

5、所述第一環(huán)形路徑包括第一自轉段、第二自轉段和非自轉段；所述轉盤裝置還包括兩個自轉驅動構件，所述自轉驅動構件包括通過電機驅動的、沿循環(huán)路徑移動的傳動帶，兩個所述自轉驅動構件的至少一段所述傳動帶分別與處于所述第一自轉段和第二自轉段內(nèi)的自轉傳動輪傳動嚙合；

6、所述校正裝置和洗邊裝置分別設置于所述第一自轉段和第二自轉段的旁側，所述校正裝置設有可轉動的對中轉輪，所述洗邊裝置設有可轉動的洗邊輪。

7、本發(fā)明所提供的陶瓷器具洗邊機，至少具有如下的有益效果：所述公轉驅動構件能夠帶動公轉轉盤旋轉，以使多個所述轉軸機構沿第一環(huán)形路徑移動。當轉軸機構移動至第一自轉段或第二自轉段時，其自轉傳動輪與對應的自轉驅動構件的傳動帶接觸而實現(xiàn)傳動連接，使得旋轉軸能夠自轉。兩個所述自轉驅動構件能夠分別驅動處于第一自轉段或第二自轉段的轉軸機構轉動。處于第一自轉段和第二自轉段的轉軸機構的旋轉速度能夠分別根據(jù)不同需要來設置。處于第一自轉段的轉軸機構能夠以較低轉速轉動，以通過所述對中轉輪實現(xiàn)對中校正，避免轉速過快導致物料從轉軸上掉落；而處于第二自轉段的轉軸機構能夠以較高轉速轉動，以通過所述洗邊輪進行清洗打磨，提高洗邊效率。本發(fā)明的陶瓷器具洗邊機，通過分區(qū)設置不同位置的轉軸機構的轉動速度，以使轉軸機構在對中校正過程和洗邊加工過程的轉速能夠不一致，降低了上料難度的同時能夠保持洗邊加工效率。

8、作為上述技術方案的進一步改進，所述旋轉軸的上端設有吸附件，所述公轉轉盤設有導氣軸套，所述導氣軸套一一對應同軸套設于所述旋轉軸、以使所述旋轉軸外側形成環(huán)形的導氣空間，所述旋轉軸內(nèi)設有連通所述吸附件和導氣空間的導氣通道，所述導氣軸套設有連通所述導氣空間的導氣口，所述導氣口與負壓發(fā)生元件相連通。

9、作為上述技術方案的進一步改進，所述公轉轉盤設有配氣機構，所述配氣機構包括配氣固定盤和配氣旋轉盤；

10、所述配氣旋轉盤設有多條配氣通道，所述配氣通道具有第一端口和第二端口，多條所述配氣通道的第一端口與所述旋轉軸一一對應相互連通，所述第二端口繞周向均布于所述配氣旋轉盤的下側面，所述配氣旋轉盤與所述公轉轉盤同軸固定連接、以使多個所述第二端口沿第二環(huán)形路徑同步移動；

11、所述配氣固定盤的上端面與所述配氣旋轉盤的下端面密封抵接，所述配氣固定盤的上端面設有沿所述第二環(huán)形路徑延伸的配氣槽和泄氣槽，所述配氣槽與負壓發(fā)生元件相連通，所述泄氣槽與外界相連通。

12、作為上述技術方案的進一步改進，所述配氣槽和泄氣槽相互靠近的端部之間設有預通氣槽，兩個所述預通氣槽相互連通。

13、作為上述技術方案的進一步改進，所述轉盤裝置包括基架，所述配氣旋轉盤同軸固定設置有中心軸，所述中心軸與所述基架轉動連接，所述配氣固定盤呈環(huán)形套設于所述中心軸外側，所述配氣固定盤沿上下方向與所述基架彈性連接、以使所述配氣固定盤的上端面抵緊于所述配氣旋轉盤的下端面。

14、作為上述技術方案的進一步改進，還包括整形裝置，所述整形裝置設于所述第一自轉段的旁側，所述校正裝置和整形裝置繞所述公轉轉盤的周向依次排布，所述整形裝置具有整形件和用于帶動所述整形件靠近或遠離所述公轉轉盤的中軸線的整形驅動構件。

15、作為上述技術方案的進一步改進，所述整形件包括切槽刀和修邊刀，所述整形裝置包括整形臺，所述整形驅動構件用于帶動所述整形臺相對所述公轉轉盤移動，所述切槽刀和修邊刀均可調安裝于所述整形臺，所述切槽刀用于加工碗碟主體與底足的連接位置，所述修邊刀用于對陶瓷器具邊緣進行修邊。

16、作為上述技術方案的進一步改進，所述修邊刀彈性擺動設置，所述整形驅動構件包括橫向驅動組件和縱向驅動組件，所述橫向驅動組件用于帶動所述整形臺沿朝向所述公轉轉盤中心的第一方向移動，所述縱向驅動組件用于帶動所述整形臺沿垂直于所述第一方向的第二方向移動。

17、作為上述技術方案的進一步改進，所述自轉驅動構件包括自轉驅動單元、驅動帶輪、從動帶輪、張緊輪和所述傳動帶，所述自轉驅動單元與所述驅動帶輪驅動連接，所述傳動帶傳動繞設于所述驅動帶輪、從動帶輪和張緊輪，所述驅動帶輪、從動帶輪和張緊輪均設于所述第一環(huán)形路徑遠離圓心的一側。

18、作為上述技術方案的進一步改進，所述校正裝置包括校正滑臺和用于帶動所述校正滑臺靠近或遠離所述公轉轉盤的中軸線的校正進給驅動單元；所述對中轉輪可調設置于所述校正滑臺；所述洗邊裝置包括洗邊滑臺和用于帶動所述洗邊滑臺靠近或遠離所述公轉轉盤的中軸線的洗邊進給驅動單元，所述洗邊輪可調設置于所述洗邊滑臺。