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  • 一種硅納米材料的制備方法及應(yīng)用

    文檔序號(hào):9364541閱讀:499來源:國知局
    一種硅納米材料的制備方法及應(yīng)用
    【技術(shù)領(lǐng)域】
    [0001]本發(fā)明屬于娃納米材料技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種娃納米材料的制備方法及應(yīng)用。
    【背景技術(shù)】
    [0002]由于硅納米材料具有高的理論容量(?4200mAh/g)和低的放電電位(< 0.5V,Li/Li+),被認(rèn)為是池代替可充放電鋰電離子電傳統(tǒng)負(fù)極最好的材料?;诠杓{米材料在功能電子設(shè)備上的重要應(yīng)用,其制備引起了廣泛的關(guān)注。
    [0003]為了合成能應(yīng)用于鋰電池負(fù)極材料的納米硅材料,大量的合成方法得到了發(fā)展。
    [0004]通過化學(xué)氣相沉積法,在壓力為3Torr的反應(yīng)器內(nèi)400°C熱解SiH4/H2 (50 % )和PH3/H2(10ppm)的混合氣,并在多孔氧化鋁為模板的輔助下制備硅納米線,該納米線展示了長的循環(huán)壽命(1100圈充放循環(huán)后容量為1029mAh/g)和高的倍率性能(10個(gè)倍率下容量為?956mAh/g) (Cho J H, Picraux S T.Nano letters, 13:5740-5747 (2013)),這種技術(shù)制備的硅納米材料性能較好,但成本昂貴。
    [0005]四氯化娃也是合成娃納米材料的重要原料,Heath等人在1992年首次報(bào)道了有機(jī)相中鈉還原四氯化娃制備娃納米團(tuán)簇的方法,但該方法需要在鋼制反應(yīng)Il內(nèi)385°C反應(yīng)3 天到 7 天(Heath J R.,Science, 258:1131-1133 (1992)),隨后,Ja^hil Cho 等人也使用類似的制備方法合成了硅納米顆粒,該顆粒通過進(jìn)一步的碳包覆后展現(xiàn)了高的充電容量(3535mAh/g),并且循環(huán) 40 圈后容量保持96% (Kim H, Seo M, Park M H, et al.Angew.Chem.1nter.Ed.,49:2146-2149 (2010))。但采用此種方法主要是在有機(jī)溶劑中進(jìn)行制備。
    [0006]采用固相還原二氧化硅也是合成硅材料的一種方法,如高于2000 0C的碳熱還原二氧化娃(Nagamori, M.,Malinsky, 1.&Claveau, A.Metall.Trans.B17, 503-514(1986))、650 °C 時(shí)的鎂熱還原(Bao Z, ffeatherspoon M R, Shian S,etal.,Nature, 446:172-175 (2007))與大于 850°C條件下的電化學(xué)還原(Cho S K, Fan F RF, Bard A J., Angewandte Chemie, 124:12912-12916 (2012))。Chen 等在 650°C鎂熱還原介孔SBA-15獲得介孔的三維硅材料,包覆一層碳之后在電流密度為4.2A/g時(shí)循環(huán)100圈表現(xiàn)出可逆比容量為1500mAh/g。二氧化硅以及硅酸鹽是硅在自然界中的主要存在方式,易獲得且價(jià)格便宜,因此是目前工業(yè)上制備硅的主要原料,但是以其為原料的合成方法所需溫度較高、能耗較大。
    [0007]因此,發(fā)展環(huán)境友好的低溫合成方法,對(duì)硅納米材料的規(guī)模制備具有重要意義。

    【發(fā)明內(nèi)容】

    [0008]有鑒于此,本發(fā)明要解決的技術(shù)問題在于提供一種環(huán)境友好的硅納米材料的制備方法及應(yīng)用。
    [0009]本發(fā)明提供了一種硅納米材料的制備方法,包括:
    [0010]將硅源、還原劑與熔鹽混合,在密閉的條件下加熱進(jìn)行反應(yīng),得到硅納米材料;所述還原劑為金屬。[0011 ] 優(yōu)選的,所述硅源選自硅氧化合物、硅酸鹽、含硅礦物與生物質(zhì)中的一種或多種。
    [0012]優(yōu)選的,所述還原劑選自金屬鉀、金屬鈣、金屬鈉、金屬鎂、金屬鋁以及上述金屬的合金中的一種或多種。
    [0013]優(yōu)選的,所述熔鹽選自氯化鋁、氯化鋅、氯化鎂、氯化鈉與氯化鋰中的一種或多種。
    [0014]優(yōu)選的,所述硅源、還原劑與熔鹽的摩爾比為1: (1.5?5): (I?15)。
    [0015]優(yōu)選的,所述反應(yīng)的溫度為200 °C?600 °C。
    [0016]優(yōu)選的,所述反應(yīng)的時(shí)間為30分鐘?3天。
    [0017]優(yōu)選的,所述反應(yīng)在高壓釜中進(jìn)行。
    [0018]優(yōu)選的,還包括:
    [0019]反應(yīng)后,依次經(jīng)水洗、酸洗、氫氟酸浸泡、過濾、干燥后,得到硅納米材料。
    [0020]本發(fā)明還提供了硅納米材料在鋰離子電池負(fù)極材料中的應(yīng)用。
    [0021]本發(fā)明提供了一種硅納米材料的制備方法及其應(yīng)用,該制備方法包括將硅源、還原劑與熔鹽混合,在密閉的條件下加熱進(jìn)行反應(yīng),得到硅納米材料;所述還原劑為金屬,與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明在熔鹽體系中還原硅源,所用原料便宜,熔鹽使反應(yīng)溫度降低,且無需加入有機(jī)溶劑,使制備流程簡單環(huán)保。
    [0022]實(shí)驗(yàn)表明,本發(fā)明制備的硅納米材料的產(chǎn)率可達(dá)80%。
    【附圖說明】
    [0023]圖1為本發(fā)明實(shí)施例1中得到的硅納米材料的X射線衍射譜圖;
    [0024]圖2為本發(fā)明實(shí)施例1中得到的硅納米材料的掃描電鏡照片;
    [0025]圖3為本發(fā)明實(shí)施例1中得到的硅納米材料的透射電鏡照片;
    [0026]圖4為本發(fā)明實(shí)施例2中得到的硅納米材料的X射線衍射譜圖;
    [0027]圖5為本發(fā)明實(shí)施例3中得到的硅納米材料的X射線衍射譜圖;
    [0028]圖6為本發(fā)明實(shí)施例3中得到的硅納米材料的掃描電鏡照片;
    [0029]圖7為本發(fā)明實(shí)施例4中得到的硅納米材料的X射線衍射譜圖;
    [0030]圖8為本發(fā)明實(shí)施例5中得到的硅納米材料的X射線衍射譜圖;
    [0031]圖9為本發(fā)明實(shí)施例6中得到的硅納米材料的X射線衍射譜圖;
    [0032]圖10為本發(fā)明實(shí)施例7中得到的硅納米材料的X射線衍射譜圖;
    [0033]圖11為本發(fā)明實(shí)施例1中得到的硅納米材料的特征充放電曲線圖;
    [0034]圖12為本發(fā)明實(shí)施例1中得到的硅納米材料的低倍率電化學(xué)循環(huán)穩(wěn)定圖;
    [0035]圖13為本發(fā)明實(shí)施例1中得到的硅納米材料的高倍率循環(huán)穩(wěn)定圖。
    【具體實(shí)施方式】
    [0036]下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例的附圖,對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例,而不是全部的實(shí)施例?;诒景l(fā)明中的實(shí)施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例,都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
    [0037]本發(fā)明提供了一種硅納米材料的制備方法,包括:將硅源、還原劑與熔鹽混合,在密閉的條件下加熱進(jìn)行反應(yīng),得到娃納米材料;所述還原劑為金屬。
    [0038]其中,本發(fā)明對(duì)反應(yīng)的原料并沒有特殊的限制,為市售即可。
    [0039]所述硅源為本領(lǐng)域技術(shù)人員熟知的含硅物質(zhì)即可,并無特殊的限制,本發(fā)明中優(yōu)選為硅氧化合物、硅酸鹽、含硅礦物與生物質(zhì)中的一種或多種;所述硅氧化合物優(yōu)選為二氧化娃、白炭黑與一氧化娃中的一種或多種;所述娃酸鹽優(yōu)選為分子篩;所述含娃礦物優(yōu)選為硅藻土、鉀長石、鈉長石、石英砂與海泡石中的一種或多種;所述生物質(zhì)優(yōu)選為竹葉和/或稻殼。
    [0040]所述還原劑為本領(lǐng)域技術(shù)人員熟知的金屬即可,并無特殊的限制,本發(fā)明優(yōu)選為金屬鉀、金屬鈣、金屬鈉、金屬鎂、金屬鋁以及上述金屬的合金中的一種或多種;所述還原劑的粒徑優(yōu)選為10?1000目,更優(yōu)選為100?800目,再優(yōu)選為200?600目。
    [0041]所述熔鹽優(yōu)選為氯化鋁、氯化鋅、氯化鎂、氯化鈉與氯化鋰中的一種或多種,更優(yōu)選為無水氯化鋁、無水氯化鋅、無水氯化鎂、無水氯化鈉與無水氯化鋰中的一種或多種?’反應(yīng)體系中加入熔鹽可使硅源在較低的溫度下被還原劑還原。
    [0042]按照本發(fā)明,所述硅源、還原劑與熔鹽的摩爾比優(yōu)選為:1: (1.5?5) (I?15),更優(yōu)選為1: (2?3): (I?10),再優(yōu)選為1: (2?3): (3?10)。
    [0043]將上述原料混合后,在密閉的條件下加熱進(jìn)行反應(yīng);所述反應(yīng)的溫度優(yōu)選為200 °C?600 °C,更優(yōu)選為200 °C?500 °C ;所述反應(yīng)的時(shí)間優(yōu)選為30分鐘?3天,更優(yōu)選為5?30h ;所述反應(yīng)優(yōu)選在高壓釜中進(jìn)行,更優(yōu)選在20ml?3L的高壓釜中進(jìn)行;所述高壓釜優(yōu)選為不銹鋼釜。
    [0044]反應(yīng)后,優(yōu)選還包括后處理過程,更優(yōu)選依次經(jīng)水洗、酸洗、氫氟酸浸泡、過濾、干燥后,得到硅納米材料。所述酸洗所用的酸為本領(lǐng)域技術(shù)人員熟知的酸即可,并無特殊的限制,本發(fā)明優(yōu)選為鹽酸,更優(yōu)選為I?3mol/L的鹽酸;所述氫氟酸浸泡的時(shí)間優(yōu)選為10?120s,更優(yōu)選為40?60s。
    [0045]本發(fā)明在熔鹽體系中還原硅源,所用原料便宜,熔鹽使反應(yīng)溫度降低,且無需加入有機(jī)溶劑,使制備流程簡單環(huán)保且產(chǎn)率較高。
    [0046]本發(fā)明還提供了一種上述制備的硅納米材料在鋰離子電池負(fù)極材料中的應(yīng)用,將硅納米材料與碳材料復(fù)合后最為負(fù)極,組裝成鋰離子電池。
    [0047]所述娃納米材料與碳材料優(yōu)選按照以下方法進(jìn)行復(fù)合:將娃納米材料、碳材料與膠黏劑混合并在水中分散,使用抽濾、噴霧干燥或涂布等方式制作成膜。
    [0048]為了進(jìn)一步說明本發(fā)明,以下結(jié)合實(shí)施例對(duì)本發(fā)明提供的一種硅納米材料的制備方法及應(yīng)用進(jìn)行詳細(xì)描述。
    [0049]以下實(shí)施例中所用的試劑均為市售,鎂粉與無水三氯化
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